超纯水技术

电子行业超纯水系统
1.1概述
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。
1.2应用范围
1、电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。
　　2、化工工艺用水、化学药剂、化妆品等用纯水。
3.单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺用纯水。
1.3产水水质
1.3.1电子级水质技术指标（GB11446-1-1997）

1.3.2美国超纯水水质标准

①90%时间纯水电阻率应≥18 MΩ.cm，允许短时间不小于17 MΩ.cm。
②90%时间纯水电阻率应≥15MΩ.cm，允许短时间不小于12 MΩ.cm。
1.3.3电子工业部高纯水水质试行标准

说明：①一级高纯水适用于大规模集成电路，微波器件以及有相同要求到半导体器件产品。
②二级高纯水适用与一般电路，分立器件以及有相同要求的半导体器件产品。
1.3.4美国半导体工业纯水指标

 
1.4典型处理工艺
制备电子工业用超纯水的工艺流程 ：
电子行业制备超水的工艺大致分成以下几种：
1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床（复床）→纯水箱→纯水泵→抛光混床→后置精密过滤器→用水点
2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床（复床）→纯水箱→纯水泵→抛光混床→后置精密过滤器→用水点
3、采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取超纯水的常用工艺，也是一种环保，经济，发展比较成熟的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→原水箱→沙炭过滤器→精密过滤器→双级反渗透设备→中间水箱→电去离子（EDI）→氮封水箱→UV装置→纯水泵→抛光混床→后置精密过滤器→用水点
4、采用全膜法水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→原水箱→石英砂过滤/自清洗过滤/盘式过滤→超滤系统→超滤产水箱→双级反渗透设备→中间水箱→电去离子（EDI）→氮封水箱→UV装置→纯水泵→抛光混床→后置精密过滤器→用水点

说明：如果产水水质对TOC与溶解氧有要求是需要增加脱碳与脱氧装置。
1.5设备图片