超纯水EDI系统

一：超纯水简介
超纯水最初是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，如今超纯水已在生物、医药、汽车等领域广泛应用。这种水中除了水分子(H20)外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素。超纯水,是一般工艺很难达到的程度，如水的电阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm则称为超纯水。目前，制备超纯水的方法通常采用反渗透，去离子或电去离子(EDI)等工艺。
二：应用领域
•化工材料的生产和加工过程所用的溶剂及清洗过程
•超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水
•实验室和中试车间用超纯水
•半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水
•石英、硅材料生产、加工、提纯
•高纯墨水、传真打印机中的喷墨、纳米墨水
•汽车、家电表面抛光处理
•光电子产品；　
•日用化妆品生产用水
•其他高科技精微产品；
三：电子行业超纯水常规制备工艺
1）采用离子交换方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器（阻垢剂）→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→纯水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点
2）采用反渗透加离子交换方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器（阻垢剂）→精密过滤器→反渗透机→阴阳树脂混床→纯水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点
3）采用反渗透加EDI方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器（阻垢剂）→精密过滤器→反渗透机→EDI系统→抛光混床→纯水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点
四：超纯水行业相关水质标准
 
中国国家电子超纯水规格GB/T1146.1-1997

级别	EW-Ⅰ	EW-Ⅱ	EW-Ⅲ	EW-Ⅳ
电阻率 MΩ·cm（25℃）	18 (95%时间) 不低于17	15 (95%时间) 不低于13	12.0	0.5
全硅 最大值ug/L	2	10	50	1000
>1um微粒数，最大值 个/ml	0.1	5	10	500
细菌数，最大值，个/mL	0.01	0.1	10	100
铜，最大值 ug/L	0.2	1	2	500
锌，最大值 ug/L	0.2	1	2	500
镍，最大值 ug/L	0.1	1	2	500
钠，最大值 ug/L	0.5	2	5	1000
钾，最大值 ug/L	0.5	2	5	500
氯，最大值 ug/L	1	1	10	1000
硝酸根，最大值 ug/L	1	1	10	500
磷酸根，最大值 ug/L	1	1	10	500
硫酸根，最大值 ug/L	1	1	10	500
总有机碳，最大值 ug/L	20	100	200	1000

美国纯水水质标准（美国计量测试学会ASTM纯水水质标准，1983）

序号	水质项目	单位	E-Ⅰ	E-Ⅱ	E-Ⅲ	E-Ⅳ
1	电阻率，25℃	MΩ.cm	18	15	2	0.5
2	二氧化硅（全）	µg/l	5	10	100	1000
3	微粒（粒径≥1μm）	个/ml	2	5	100	500
4	微生物	个/ml	1	10	50	100
5	有机物TOC	µg/l	50	200	1000	5000
6	铜Cu	µg/l	2	10	100	1000
7	氯Cl	µg/l	2	10	100	500
8	钾K	µg/l	1	10	200	1000
9	钠Na	µg/l	1	10	200	1000
10	锌Zn	µg/l	5	20	200	500
11	总固体	µg/l	10	50	500	2000